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http://repositorio.ufla.br/jspui/handle/1/55793
Registro completo de metadados
Campo DC | Valor | Idioma |
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dc.creator | Dias, Jeferson Almeida | - |
dc.creator | Andrade Junior, Marcos Antonio Santana | - |
dc.creator | Morelli, Márcio Raymundo | - |
dc.creator | Bretas, Rosario Elida Suman | - |
dc.creator | Santos, Hugo Leandro Sousa dos | - |
dc.creator | Sales, Lucia Helena Mascaro | - |
dc.creator | Giraldi, Tania Regina | - |
dc.date.accessioned | 2023-01-13T21:51:48Z | - |
dc.date.available | 2023-01-13T21:51:48Z | - |
dc.identifier.other | BR 10 2019 025561 7 A2 | pt_BR |
dc.identifier.uri | http://repositorio.ufla.br/jspui/handle/1/55793 | - |
dc.title | Composição para filmes finos cerâmicos, processo de obtenção de resina para filmes finos cerâmicos sobre substrato de vidro/ FTO e filmes finos cerâmicos sobre substrato de vidro/FTO obtidos | pt_BR |
dc.rights.holder | Fundação Universidade Federal de São Carlos | pt_BR |
dc.rights.holder | Universidade Federal de Alfenas | pt_BR |
dc.description.resumo | É descrita uma composição para filmes finos cerâmicos que compreende uma resina precursora à base de sais de metais de transição e sais alcalino terrosos ou sais complexos de lantânio ou derivados e sal de metal de transição, a dita resina sendo adicionado o copolímero tribloco OPE20OPP70OPE20 e onde a proporção do dito copolímero tribloco para cada mililitro da resina precursora é de pelo menos 5 mg, à temperatura ambiente. O processo de obtenção da resina para filmes finos compreende aquecer e agitar a composição de resina precursora e polímero tribloco, ajustar as viscosidades ao entorno de 10 cP, deixar a solução descansar por algumas horas para desprendimento das bolhas formadas na fase líquida, e recuperar e armazenar o produto resina. A resina obtida é usada para a obtenção de filmes óxidos por deposição sobre substrato de vidro/FTO seguida de calcinação. Os filmes óxidos são usados em processos eletroquímicos, fotovoltaicos e em sensores. | pt_BR |
Aparece nas coleções: | NINTEC - Patentes |
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